误导性陈述 蹭“光刻机”概念？深交所对苏大维格启动纪律处分程序！

10月12日晚间，披露深交所下发的关注函。针对其在互动易平台对投资者提问有关“光刻机”相关回复涉嫌存在不真实、不准确、不完整情形及误导性陈述的行为启动纪律处分程序。

模糊用词引发当日涨停

根据深交所下发的关注函显示，在互动易平台对投资者提问的有关“光刻机”相关回复受到媒体和投资者广泛质疑，并引起股价大幅波动，涉嫌存在不真实、不准确、不完整情形及误导性陈述，市场影响恶劣，交易所将对及相关违规当事人启动纪律处分程序。

9月14日午间，在投资者互动平台中对光刻机出货的描述“光刻机已向国内龙头芯片企业销售”，引发了市场的强烈关注，当日股价涨停20%，成交金额高达15亿元。次日，深交所随即下发关注函。

事实上，方面在回复中未能充分考虑到部分投资者可能对光刻机的技术路线、相关技术的具体应用领域等情况不了解，也未详细说明公司光刻设备的具体类型、主要的应用领域、与行业龙头企业的差距，以及客户主要用途等信息；同时，也未说明相关设备收入占公司收入比重较低，未充分提示相关风险。

此前，2023半年报中也曾提及，“公司光刻设备已向国内某芯片龙头企业实现销售，并向国内厂商提供应用于IC芯片投影式光刻机的核心部件定位光栅尺产品”。其与在投资互动平台所回复整体内容表述类似，但是“光刻设备”一词变为“光刻机”。

随后，在10月8日，回复深交所关注函时表示：“一般所称的光刻机是有掩模光刻机中的投影式光刻机，与公司所生产的激光直写光刻机不属于同一技术路线。”

资料显示，泛半导体光刻技术可分为直写光刻和掩模光刻。其中，直写光刻精度较低，多用于IC后道封装、低世代线平板显示、PCB等领域；掩模光刻目前主流形式为投影式，光刻精度高，可用于IC制造的前道工艺，后道先进封装，以及中高世代线的FPD生产。目前，掩模光刻技术主要由ASML等海外厂商掌握，而直写光刻在国内还有芯碁微装等多家公司突破。

在9月18日-10月12日这近13个交易日，股价区间累计跌幅达29.09%，同期大盘涨幅0.24%。截至10月12日收盘，股价报24.82元/股，当日收跌2.36%，总市值为64.45亿元。

此前曾多次使用“光刻机”一词

值得注意的是，这并非第一次使用光刻机的表达，其首次将“光刻机”一词写入日常公告披露中为2015年年报，公告中表示“公司依靠先进的技术研发能力实现了从源头的光刻机制造，到个性化图形的微纳结构设计，原版开发及批量生产模具的翻制，完全实现自我供给。”而在此后2019——2022年光刻机一词均多次在年度报告中被提及，于8月25日发布的2023年半年度报告中，全文使用光刻机一词6次。

尽管频频蹭“光刻机”概念，但是业绩却大幅下滑，2021年亏损3.49亿元，2022年亏损2.79亿元。2023年上半年，实现营业收入7.88亿元，较上年同期下滑10.47%。

表示，目前公司生产的光刻设备主要为自用，外销收入占公司整体销售收入的比重不足 3%，占比较小，对公司经营业绩没有重大影响，未来能否进一步扩大应用领域和销售规模存在较大不确定性。

编辑：胡晨曦

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